Category: OPINIONS

湖南平江县24乡镇在一家打印店花费174万元人民币 7/30/2023 中国湖南省岳阳市平江县24个乡镇在同一家打印店打印，四年间共花费174万余元（人民币，下同，32万新元）。 湖南岳阳市纪委监委星期六（7月29日）通报了近年来查处的五起领导干部利用职权或影响力为亲友牟利典型案例。其中一个案例中，平江县科学技术协会原副主席、党组成员余志辉利用职务便利，违规为子女经营活动谋取利益。 通报称，余志辉2018年至2021年在平江县农村人居环境整治指挥部督导办（简称“督导办”）工作期间，利用职务便利向相关乡镇打招呼，要求对其子余某某经营的文印店生意予以关照。 鉴于余志辉在督导办工作可以为乡镇提供环境督查的暗访时间、人员等信息，全县24个乡镇均按其要求在该文印店制作人居环境宣传册、公示牌等资料，共计174万余元。 通报说，余志辉还存在其他违纪问题。余志辉2023年3月受到党内严重警告处分，违纪所得予以收缴。 另据澎湃新闻报道，平江县纪委监委今年4月通报四起乡村振兴领域不正之风和腐败问题典型案例时，余志辉也被点名。 这份通报披露的时间跨度为2016年至2021年12月，时任县农村人居环境整治指挥部督导办副主任凌玉龙，工作人员杨文、黎想根、李交良、余志辉等人在开展农村人居环境督查工作过程中，接受可能影响公正执行公务的宴请，收受管理服务对象红包礼金共计11.93万元，并利用职务便利，以透露督查时间等方式对相关乡镇（街道）考核排名予以关照。此外，余志辉还存在其他违纪问题。 2023年3月，杨文、黎想根、李交良分别受到党内警告处分，凌玉龙、余志辉分别受到党内严重警告处分。其他责任人均受到相应处理，违纪资金已于2022年6月30日前主动上缴。 Source 打破围堵 中国国产光刻机实现突破 中时新闻网  7/27/2023 　　大陆半导体界最近传出消息称，上海微电子预计在2023年底能将交付首台国产28奈米浸润式光刻机。图为上海微电子制造的90nm光刻机。（图／上海微电子） 　　继美国与荷兰之后，日本于7月23日实施限制半导体制造设备出口新规正式生效，这对中国半导体产业最尖端的芯片制造领域带来巨大压力。陆媒指出，虽然中国将因此而增加高端光刻机国产化的难度，但近日半导体界传出消息称，上海微电子预计在2023年底能将交付首台国产28奈米浸润式光刻机。 　　据《证券日报》，光刻机是半导体工业最重要的设备之一，决定著芯片的工艺水准和性能，是芯片制造中的关键设备，也是半导体产业核心中的核心。但是目前全球光刻机市场几乎被荷兰的艾斯麦(ASML)、日本的佳能和尼康垄断，其中ASML更是独佔高端极紫外光刻机(EUV)的市场份额。 　　报道说，EUV光刻机有超过45万个零件，零件数量是一辆F1赛车的20倍以上，制造难度超乎想像。即便是处于世界EUV光刻机制造垄断地位的ASML，大约也只生产了其中的15%，另外85%的零件需要从全球的供应链整合而来。因此，中国推进光刻机关键技术研发以提升半导体设备国产化，是当下乃至未来相当长一段时间内，既重要紧迫，同时又有很高难度的攻坚任务。 　　报道指出，近日有消息称，上海微电子正极力研发28奈米浸润式DUV光刻机，预计在2023年底将国产第一台SSA/800-10W光刻机设备交付市场。而去年底官方公布华为一项名为“反射镜、光刻装置及其控制方法”(CN115343915A)的新专利，未来能在EUV光刻机核心技术上取得的突破性进展。另外，华中科技大学研製的OPC系统、哈尔滨工业大学研製的镭射干涉系统等，也各自有所突破。将加快推进14 奈米、7奈米甚至更低节点的光刻机研发工作。 　　大陆目前可量产90奈米以上的光刻机，与国际先进水准仍有差距，但也能满足国内市场部分需要。这显示中国在光刻机领域具有一定的技术积累和人才储备，有望逐步缩小与国际先进水准的差距。不过，光刻机涉及光学、精密机械、材料、控制等多领域複杂技术，关键技术研发具有超高难度，仅有政策和资金支援还远远不够，还需要包括技术、人才、资料等各种资源的高效组合。 　　报道说，光刻机是半导体产业“王冠上的明珠”，推进其关键技术研发，提升半导体设备国产化率，是中国半导体产业发展的必由之路，道路虽远，只要持续前进就会到达。　 Source 全球太空支出未来五年料增长41% …

中国军方征集违规军事装备招标行为线索 追溯至2017年 7/29/2023 隶属于中国军委装备发展部的全军武器装备采购信息网发布公告，公开征集自2017年10月以来的军事装备违规采购招标线索，开展装备采购招标违规违纪整肃行动。 全军武器装备采购信息网星期三（7月26日）发布《关于征集全军装备采购招标评审专家违规违纪线索的公告》，提到“为营造装备采购招标评审良好生态，军委装备发展部决定开展装备采购招标评审专家违规违纪清查整肃治理活动”，追溯自2017年10月以来违规违纪的装备采购招标行为。 军委装备发展部称，违规违纪行为的主要范围包括，自律不严、操守缺失，该回避的不回避，为关系企业提供帮助，帮助指定企业中标；不愿较真、不敢碰硬，遇到问题、分歧不讲原则，该扣的分不扣、该废的标不废；工作粗疏、评审出错，审阅文件资料不认真、不细心，评分不对标，错评误评漏评；拉帮结派、私下勾连，形成“小圈子”操控评标过程；偏袒照顾、以“专”谋私，评分标准评审中设置倾向性、排他性条款，甚至成为违规操作的帮手。 违规行为的范围还包括，任性用权、处事不公，投诉审议中“拉偏架”，为企业保驾护航，不按国家和军队有关规定处理问题，甚至误导处理决定等；跑风漏气、主动泄密，私自透露评审专家信息，评审专家私自透露项目信息、投标单位信息、评审工作信息；组建不力、监管缺失，招标评审专家库入口把关不严、审核入库流于形式，缺乏系统建设监管措施，动态更新专家库不到位，违规违纪专家处理不力。 中共中央军委主席习近平星期一（7月24日）在主持中共中央政治局第七次集体学习时，也强调要“全面加强军事治理”，称“要把军事治理同改革和法治有机结合起来……强化法规制度实施和执行监督”，用好法治更好推进军事治理各项工作。 另外，《南华早报》星期五（28日）引述消息人士报道称，中共中央军委纪律检查委员会及军方审计部门，正对火箭军司令员李玉超、副司令员刘光斌及前副司令员张振中展开调查，据称三人已被中共中央军委反腐机构调查人员带走。 Source 打破围堵 中国国产光刻机实现突破 中时新闻网  7/27/2023 　　大陆半导体界最近传出消息称，上海微电子预计在2023年底能将交付首台国产28奈米浸润式光刻机。图为上海微电子制造的90nm光刻机。（图／上海微电子） 　　继美国与荷兰之后，日本于7月23日实施限制半导体制造设备出口新规正式生效，这对中国半导体产业最尖端的芯片制造领域带来巨大压力。陆媒指出，虽然中国将因此而增加高端光刻机国产化的难度，但近日半导体界传出消息称，上海微电子预计在2023年底能将交付首台国产28奈米浸润式光刻机。 　　据《证券日报》，光刻机是半导体工业最重要的设备之一，决定著芯片的工艺水准和性能，是芯片制造中的关键设备，也是半导体产业核心中的核心。但是目前全球光刻机市场几乎被荷兰的艾斯麦(ASML)、日本的佳能和尼康垄断，其中ASML更是独佔高端极紫外光刻机(EUV)的市场份额。 　　报道说，EUV光刻机有超过45万个零件，零件数量是一辆F1赛车的20倍以上，制造难度超乎想像。即便是处于世界EUV光刻机制造垄断地位的ASML，大约也只生产了其中的15%，另外85%的零件需要从全球的供应链整合而来。因此，中国推进光刻机关键技术研发以提升半导体设备国产化，是当下乃至未来相当长一段时间内，既重要紧迫，同时又有很高难度的攻坚任务。 　　报道指出，近日有消息称，上海微电子正极力研发28奈米浸润式DUV光刻机，预计在2023年底将国产第一台SSA/800-10W光刻机设备交付市场。而去年底官方公布华为一项名为“反射镜、光刻装置及其控制方法”(CN115343915A)的新专利，未来能在EUV光刻机核心技术上取得的突破性进展。另外，华中科技大学研製的OPC系统、哈尔滨工业大学研製的镭射干涉系统等，也各自有所突破。将加快推进14 奈米、7奈米甚至更低节点的光刻机研发工作。 　　大陆目前可量产90奈米以上的光刻机，与国际先进水准仍有差距，但也能满足国内市场部分需要。这显示中国在光刻机领域具有一定的技术积累和人才储备，有望逐步缩小与国际先进水准的差距。不过，光刻机涉及光学、精密机械、材料、控制等多领域複杂技术，关键技术研发具有超高难度，仅有政策和资金支援还远远不够，还需要包括技术、人才、资料等各种资源的高效组合。 　　报道说，光刻机是半导体产业“王冠上的明珠”，推进其关键技术研发，提升半导体设备国产化率，是中国半导体产业发展的必由之路，道路虽远，只要持续前进就会到达。　 Source 全球太空支出未来五年料增长41% 7/25/2023 …

北京明年元旦起要求检查租车和寄快递者身份 7/29/2023 中国首都北京市明年元旦起，要求检查租车和寄快递者身份。 据央视新闻客户端报道，北京市第十六届人大常委会第四次会议表决星期五（7月28日）通过《北京市实施〈中华人民共和国反恐怖主义法〉办法》（以下简称办法），此办法自2024年1月1日起施行。 根据办法，机动车租赁业务经营者、服务提供者应当对承租人身份进行查验，对身份不明或者拒绝身份查验的，不得提供服务。小微型客车租赁业务经营者、服务提供者也应当如实登记承租人身份信息、通信方式、车辆用途、租赁时间等；开展自助取还车业务的，应当采用技术手段确认实际取车人与承租人身份一致。 办法提出，加油站应当对购买散装汽油的单位或者个人身份进行查验，如实记录购买数量、用途等；对未按照规定登记、身份不明或者拒绝身份查验的单位或者个人，不得销售散装汽油。 办法也对快递寄送业者提出明确要求，即相关业者要对客户身份进行查验和登记。邮政、快递企业还应当对寄递物品采取过机安检、开封验视等安全防范措施，并登记物品信息；应当在寄递物品处理场所配备安全检查设备，安排具备专门知识和技能的人员，对从外埠进入北京市的寄递物品按照规定进行安全检查。 防范利用无人机进行恐怖活动是反恐怖主义工作的重要内容，为确保首都安全，应当加强对无人机使用的管理工作。 办法规定，民用无人驾驶航空器所有者应当按照国家规定进行实名登记；发生出售、转让、损毁、报废、丢失或者被盗等情况的，应当及时更新登记信息。任何单位和个人不得利用民用无人驾驶航空器实施恐怖活动以及其他违反法律法规的行为；不得非法破解民用无人驾驶航空器安全控制信息系统，解除安全限制。 Source 打破围堵 中国国产光刻机实现突破 中时新闻网  7/27/2023 　　大陆半导体界最近传出消息称，上海微电子预计在2023年底能将交付首台国产28奈米浸润式光刻机。图为上海微电子制造的90nm光刻机。（图／上海微电子） 　　继美国与荷兰之后，日本于7月23日实施限制半导体制造设备出口新规正式生效，这对中国半导体产业最尖端的芯片制造领域带来巨大压力。陆媒指出，虽然中国将因此而增加高端光刻机国产化的难度，但近日半导体界传出消息称，上海微电子预计在2023年底能将交付首台国产28奈米浸润式光刻机。 　　据《证券日报》，光刻机是半导体工业最重要的设备之一，决定著芯片的工艺水准和性能，是芯片制造中的关键设备，也是半导体产业核心中的核心。但是目前全球光刻机市场几乎被荷兰的艾斯麦(ASML)、日本的佳能和尼康垄断，其中ASML更是独佔高端极紫外光刻机(EUV)的市场份额。 　　报道说，EUV光刻机有超过45万个零件，零件数量是一辆F1赛车的20倍以上，制造难度超乎想像。即便是处于世界EUV光刻机制造垄断地位的ASML，大约也只生产了其中的15%，另外85%的零件需要从全球的供应链整合而来。因此，中国推进光刻机关键技术研发以提升半导体设备国产化，是当下乃至未来相当长一段时间内，既重要紧迫，同时又有很高难度的攻坚任务。 　　报道指出，近日有消息称，上海微电子正极力研发28奈米浸润式DUV光刻机，预计在2023年底将国产第一台SSA/800-10W光刻机设备交付市场。而去年底官方公布华为一项名为“反射镜、光刻装置及其控制方法”(CN115343915A)的新专利，未来能在EUV光刻机核心技术上取得的突破性进展。另外，华中科技大学研製的OPC系统、哈尔滨工业大学研製的镭射干涉系统等，也各自有所突破。将加快推进14 奈米、7奈米甚至更低节点的光刻机研发工作。 　　大陆目前可量产90奈米以上的光刻机，与国际先进水准仍有差距，但也能满足国内市场部分需要。这显示中国在光刻机领域具有一定的技术积累和人才储备，有望逐步缩小与国际先进水准的差距。不过，光刻机涉及光学、精密机械、材料、控制等多领域複杂技术，关键技术研发具有超高难度，仅有政策和资金支援还远远不够，还需要包括技术、人才、资料等各种资源的高效组合。 　　报道说，光刻机是半导体产业“王冠上的明珠”，推进其关键技术研发，提升半导体设备国产化率，是中国半导体产业发展的必由之路，道路虽远，只要持续前进就会到达。　 Source 全球太空支出未来五年料增长41% 7/25/2023 …

给机器人配AI大脑！谷歌发布视觉语言行动模型 全天候科技 7/29/2023 谷歌正在把先进的人工智能（AI）模型植入机器人，给机器人配一个 AI 大脑。 美东时间 7 月 28 日周五，谷歌公司宣布推出应用于机器人领域的新产品——名为 Robotics Transformer 2（RT-2）的 AI 模型。它是一种全新的 ” 视觉 – 语言 – 行动 “（VLA）模型，可以帮助训练机器人理解扔垃圾等任务。 谷歌介绍，RT-2 基于 …

前白宫官员：美国需要冷静一下 承认中国崛起有益世界 中时电子报 7/28/2023 曾在美国前总统川普手下担任10天白宫通讯主任的华尔街金融玩家安东尼．斯卡拉穆奇（Anthony Scaramucci）受访时表示，美国两党在对华政策上都应该“冷静一下”，中美关系恶化不符合任一方的利益，认中国的崛起总体而言对世界是有益的。 斯卡拉穆奇接受美媒《彭博电视》节目访问时说，美国仍然遥遥领先于中国，但必须要承认中国的崛起总体而言对世界有益，两党在对华政策上都应该“冷静一下”。在中美经贸合作上，他也乐见美国商界高层频繁赴华“刷存在感”，同时他透露了9月将前往香港的行程。 斯卡拉穆奇是美国基金界名人，创办了天桥资本，他曾在2017年短暂担任过川普政府的白宫通讯主管，但上任仅10天就被白宫解职。当时美传出他被解职是因为在入职白宫前将公司股份卖给了中国海航资本，这项交易遭到了美国外资投资委员会（CFIUS）的审查。另有说法则称其解职与是美国政界内斗，与陆企交易只是调查的借口。 由于斯卡拉穆奇的天桥资本近年来在中国非常活跃，媒体询问他如何看待眼下美国对华关系紧张。他答道，目前两党都认定“中国是美国最大的对手”。但中美关系持续恶化既不符合美国的最佳利益，也不符合中国乃至全世界的最佳利益。对华强硬的确是一种有效的竞选手段，但实际上无益于美国消费者和就业等问题。 他指出，两党的对华政策都在比谁的态度更强硬，从竞选角度来说这些言论很有效，但从经济学角度来看完全不合理，“此举不一定能为美国在消费者福祉和就业指标上提供帮助。我觉得我们需要冷静一下。” 斯卡拉穆奇声称，美国体制远比中国优越，美国国力也仍然遥遥领先于中国。无论美国喜欢与否，中国在全球制造业的地位非同一般，这一点毋庸置疑，对华关系最好不要走回头路重返冷战时期。从长远角度考虑，中美应该弥合分歧。 Source 打破围堵 中国国产光刻机实现突破 中时新闻网  7/27/2023 　　大陆半导体界最近传出消息称，上海微电子预计在2023年底能将交付首台国产28奈米浸润式光刻机。图为上海微电子制造的90nm光刻机。（图／上海微电子） 　　继美国与荷兰之后，日本于7月23日实施限制半导体制造设备出口新规正式生效，这对中国半导体产业最尖端的芯片制造领域带来巨大压力。陆媒指出，虽然中国将因此而增加高端光刻机国产化的难度，但近日半导体界传出消息称，上海微电子预计在2023年底能将交付首台国产28奈米浸润式光刻机。 　　据《证券日报》，光刻机是半导体工业最重要的设备之一，决定著芯片的工艺水准和性能，是芯片制造中的关键设备，也是半导体产业核心中的核心。但是目前全球光刻机市场几乎被荷兰的艾斯麦(ASML)、日本的佳能和尼康垄断，其中ASML更是独佔高端极紫外光刻机(EUV)的市场份额。 　　报道说，EUV光刻机有超过45万个零件，零件数量是一辆F1赛车的20倍以上，制造难度超乎想像。即便是处于世界EUV光刻机制造垄断地位的ASML，大约也只生产了其中的15%，另外85%的零件需要从全球的供应链整合而来。因此，中国推进光刻机关键技术研发以提升半导体设备国产化，是当下乃至未来相当长一段时间内，既重要紧迫，同时又有很高难度的攻坚任务。 　　报道指出，近日有消息称，上海微电子正极力研发28奈米浸润式DUV光刻机，预计在2023年底将国产第一台SSA/800-10W光刻机设备交付市场。而去年底官方公布华为一项名为“反射镜、光刻装置及其控制方法”(CN115343915A)的新专利，未来能在EUV光刻机核心技术上取得的突破性进展。另外，华中科技大学研製的OPC系统、哈尔滨工业大学研製的镭射干涉系统等，也各自有所突破。将加快推进14 奈米、7奈米甚至更低节点的光刻机研发工作。 　　大陆目前可量产90奈米以上的光刻机，与国际先进水准仍有差距，但也能满足国内市场部分需要。这显示中国在光刻机领域具有一定的技术积累和人才储备，有望逐步缩小与国际先进水准的差距。不过，光刻机涉及光学、精密机械、材料、控制等多领域複杂技术，关键技术研发具有超高难度，仅有政策和资金支援还远远不够，还需要包括技术、人才、资料等各种资源的高效组合。 　　报道说，光刻机是半导体产业“王冠上的明珠”，推进其关键技术研发，提升半导体设备国产化率，是中国半导体产业发展的必由之路，道路虽远，只要持续前进就会到达。　 Source …

消息：拜登拟8月中旬签署命令 限制对华关键技术投资 7/28/2023 知情人士透露，美国总统拜登计划在8月中旬签署一项行政命令，限制美国公司在中国的关键技术投资。 彭博社报道，新行政令聚焦半导体，人工智能（AI）和量子计算，不会对任何已有投资造成影响，只会禁止某些投资项目。其他投资将必须向政府披露。 据悉，行政令将在8月的第二周签署，之前预测的几次签署时间最后都落空了，无法保证这次不会再次延迟。但消息人士称，内部讨论的焦点已从具体措施转移到如何推出行政令，以及配套的法规。 这些限制措施要到2024年才会生效，涵盖范围将在规则制定过程中敲定，其中还有一段征求意见期，便于利益相关者考虑最终版本。 美国国家安全委员会发言人拒绝对报道置评。 Source 打破围堵 中国国产光刻机实现突破 中时新闻网  7/27/2023 　　大陆半导体界最近传出消息称，上海微电子预计在2023年底能将交付首台国产28奈米浸润式光刻机。图为上海微电子制造的90nm光刻机。（图／上海微电子） 　　继美国与荷兰之后，日本于7月23日实施限制半导体制造设备出口新规正式生效，这对中国半导体产业最尖端的芯片制造领域带来巨大压力。陆媒指出，虽然中国将因此而增加高端光刻机国产化的难度，但近日半导体界传出消息称，上海微电子预计在2023年底能将交付首台国产28奈米浸润式光刻机。 　　据《证券日报》，光刻机是半导体工业最重要的设备之一，决定著芯片的工艺水准和性能，是芯片制造中的关键设备，也是半导体产业核心中的核心。但是目前全球光刻机市场几乎被荷兰的艾斯麦(ASML)、日本的佳能和尼康垄断，其中ASML更是独佔高端极紫外光刻机(EUV)的市场份额。 　　报道说，EUV光刻机有超过45万个零件，零件数量是一辆F1赛车的20倍以上，制造难度超乎想像。即便是处于世界EUV光刻机制造垄断地位的ASML，大约也只生产了其中的15%，另外85%的零件需要从全球的供应链整合而来。因此，中国推进光刻机关键技术研发以提升半导体设备国产化，是当下乃至未来相当长一段时间内，既重要紧迫，同时又有很高难度的攻坚任务。 　　报道指出，近日有消息称，上海微电子正极力研发28奈米浸润式DUV光刻机，预计在2023年底将国产第一台SSA/800-10W光刻机设备交付市场。而去年底官方公布华为一项名为“反射镜、光刻装置及其控制方法”(CN115343915A)的新专利，未来能在EUV光刻机核心技术上取得的突破性进展。另外，华中科技大学研製的OPC系统、哈尔滨工业大学研製的镭射干涉系统等，也各自有所突破。将加快推进14 奈米、7奈米甚至更低节点的光刻机研发工作。 　　大陆目前可量产90奈米以上的光刻机，与国际先进水准仍有差距，但也能满足国内市场部分需要。这显示中国在光刻机领域具有一定的技术积累和人才储备，有望逐步缩小与国际先进水准的差距。不过，光刻机涉及光学、精密机械、材料、控制等多领域複杂技术，关键技术研发具有超高难度，仅有政策和资金支援还远远不够，还需要包括技术、人才、资料等各种资源的高效组合。 　　报道说，光刻机是半导体产业“王冠上的明珠”，推进其关键技术研发，提升半导体设备国产化率，是中国半导体产业发展的必由之路，道路虽远，只要持续前进就会到达。　 Source 全球太空支出未来五年料增长41% 7/25/2023 一领先太空非盈利组织说，全球太空经济2022年增长了8%，达到5460亿美元（约7270亿新元），预计未来五年将再增长41%。 …

美一公司称推出”永久”电池: 每天充放电3次用30年 快科技   7/27/2023 　　快科技7月27日消息，据报道，一家位于旧金山湾区的初创公司Ener Venue，宣布了一项革命性的“永久”电池技术，能够有效地储存可再生能源，如风能和太阳能。 　　该公司CEO称，这基本上是无所不能的电池”。这种电池使用了镍氢技术，该技术已经在太空领域使用了近50年，为卫星、哈勃望远镜甚至国际空间站提供了太阳能。 　　不过，在地球上的普通民用产品上，使用这种电池面临着高昂的成本和技术难题，直到几年前，该公司的创始人Yi Cui发现了一种巧妙的方法，大幅降低了这种电池的制造成本。而且，镍是一种在地球上广泛存在的元素，不像锂那样稀缺。 　　据悉，Ener Venue公司的电池有许多优势。 　　一、其寿命非常长。这种电池可以充放电30,000次，每天充放电三次，能用30年，“从实际意义上讲，这是一种永久电池。” 　　二、这种电池非常安全。锂离子电池存在着起火和爆炸的风险，而Ener Venue公司称他们的电池经过了严格的安全标准测试，没有发生任何起火、爆炸或有毒气体释放的现象。即使在极端情况下，这种电池也只会释放出蒸汽。 　　三、电池非常灵活。可以快速或慢速地充放电，可以适应各种恶劣的环境条件，并且几乎不需要维护，可以固定在架子上、堆叠起来或储存在集装箱里。可以用于电网、商业场所，甚至有望未来用于家庭。 　　目前，美国各地的公用事业公司正在测试这种电池，该公司已经在扩建工厂产能，以应对后期增长的需求。 Source 全球太空支出未来五年料增长41% 7/25/2023 一领先太空非盈利组织说，全球太空经济2022年增长了8%，达到5460亿美元（约7270亿新元），预计未来五年将再增长41%。 彭博社报道，位于美国科罗拉多州斯普林斯的太空基金会发布分析报告说，商业太空资产带来的收入持续上升，世界各地政府都在增加支出。这份报告分析了51个政府的太空支出，以及11个航天工业子行业公司的商业收入。 太空基金会研究与数码编程总监康恩说：“商业太空飞行是整个太空经济中至关重要的增长领域。五年之内，一定会看到太空和太空资产的真正加速和扩张。” 2022年太空产业公司的收入达4276亿美元，高于2021年的3962亿美元。其中三分之一来自太空活动的基础设施和支持，例如用于卫星通信的地面站，其余来自太空产品。最大单一业务为出售定位、导航和授时（PNT）卫星数据，占所有商业太空收入的39%。 太空基金会说，2022年全球共进行186次太空发射尝试，上一年为145次。其中，商业发射占81次，50次是马斯克的美国太空探索技术公司（SpaceX）进行。 另外，2022年各国政府在太空计划方面的支出增长8%，总计达1190亿美元，增幅低于2021年的22%。 …

打破围堵 中国国产光刻机实现突破 中时新闻网  7/27/2023 　　大陆半导体界最近传出消息称，上海微电子预计在2023年底能将交付首台国产28奈米浸润式光刻机。图为上海微电子制造的90nm光刻机。（图／上海微电子） 　　继美国与荷兰之后，日本于7月23日实施限制半导体制造设备出口新规正式生效，这对中国半导体产业最尖端的芯片制造领域带来巨大压力。陆媒指出，虽然中国将因此而增加高端光刻机国产化的难度，但近日半导体界传出消息称，上海微电子预计在2023年底能将交付首台国产28奈米浸润式光刻机。 　　据《证券日报》，光刻机是半导体工业最重要的设备之一，决定著芯片的工艺水准和性能，是芯片制造中的关键设备，也是半导体产业核心中的核心。但是目前全球光刻机市场几乎被荷兰的艾斯麦(ASML)、日本的佳能和尼康垄断，其中ASML更是独佔高端极紫外光刻机(EUV)的市场份额。 　　报道说，EUV光刻机有超过45万个零件，零件数量是一辆F1赛车的20倍以上，制造难度超乎想像。即便是处于世界EUV光刻机制造垄断地位的ASML，大约也只生产了其中的15%，另外85%的零件需要从全球的供应链整合而来。因此，中国推进光刻机关键技术研发以提升半导体设备国产化，是当下乃至未来相当长一段时间内，既重要紧迫，同时又有很高难度的攻坚任务。 　　报道指出，近日有消息称，上海微电子正极力研发28奈米浸润式DUV光刻机，预计在2023年底将国产第一台SSA/800-10W光刻机设备交付市场。而去年底官方公布华为一项名为“反射镜、光刻装置及其控制方法”(CN115343915A)的新专利，未来能在EUV光刻机核心技术上取得的突破性进展。另外，华中科技大学研製的OPC系统、哈尔滨工业大学研製的镭射干涉系统等，也各自有所突破。将加快推进14 奈米、7奈米甚至更低节点的光刻机研发工作。 　　大陆目前可量产90奈米以上的光刻机，与国际先进水准仍有差距，但也能满足国内市场部分需要。这显示中国在光刻机领域具有一定的技术积累和人才储备，有望逐步缩小与国际先进水准的差距。不过，光刻机涉及光学、精密机械、材料、控制等多领域複杂技术，关键技术研发具有超高难度，仅有政策和资金支援还远远不够，还需要包括技术、人才、资料等各种资源的高效组合。 　　报道说，光刻机是半导体产业“王冠上的明珠”，推进其关键技术研发，提升半导体设备国产化率，是中国半导体产业发展的必由之路，道路虽远，只要持续前进就会到达。　 Source 全球太空支出未来五年料增长41% 7/25/2023 一领先太空非盈利组织说，全球太空经济2022年增长了8%，达到5460亿美元（约7270亿新元），预计未来五年将再增长41%。 彭博社报道，位于美国科罗拉多州斯普林斯的太空基金会发布分析报告说，商业太空资产带来的收入持续上升，世界各地政府都在增加支出。这份报告分析了51个政府的太空支出，以及11个航天工业子行业公司的商业收入。 太空基金会研究与数码编程总监康恩说：“商业太空飞行是整个太空经济中至关重要的增长领域。五年之内，一定会看到太空和太空资产的真正加速和扩张。” 2022年太空产业公司的收入达4276亿美元，高于2021年的3962亿美元。其中三分之一来自太空活动的基础设施和支持，例如用于卫星通信的地面站，其余来自太空产品。最大单一业务为出售定位、导航和授时（PNT）卫星数据，占所有商业太空收入的39%。 太空基金会说，2022年全球共进行186次太空发射尝试，上一年为145次。其中，商业发射占81次，50次是马斯克的美国太空探索技术公司（SpaceX）进行。 另外，2022年各国政府在太空计划方面的支出增长8%，总计达1190亿美元，增幅低于2021年的22%。 太空基金会预计，随着各国加快探索月球，并把有军事应用的大型卫星星座列为优先，公共部门今年在太空方面的支出将加快。 Source 中国成功发射四象01星等四颗卫星 7/23/2023 …