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新的美中直航获交通部批准 美中航线有望进一步扩容 侨报网 7/31/2023 　【侨报网综合讯】近日，交通部批准了美国东方航空（Eastern Airlines）纽约肯尼迪-上海浦东每周4班的客运航班申请，这意味着，往返美中的直航航线有望进一步扩容。 东方航空必须在90天内执行航班 中国民航资源网报道，美国交通部于26日批准了美国东方航空纽约肯尼迪-上海浦东的航线申请。批准中，交通部要求美国东方航空必须在90天内执行航班，一旦超过期限，此次批准将会失效。 据悉，该航班的执行还需要得到中国民航局的批准。不过，中方暂未公布该航线的相关消息。 《侨报》记者随后查询了美国东方航空官网，网站显示，该航空公司目前仅拥有往返于佛罗里达州迈阿密和多米尼加共和国圣多明各的航班。 另据中国外交部此前消息，针对中美双方将于何时增加客运航班数量的问题，中国外交部发言人毛宁6月20日在例行记者会上表示，中方愿同美方一道，本着灵活务实的态度，推动增加航班。 东方航空曾为美国四大航之一 此前，美国东方航空于2022年10月27日向交通部提交纽约肯尼迪-上海浦东每周4班客运航班的申请及相关运营豁免。美国东方航空计划于2022年11月起开始执行，初期班次为每周2班；预计在2023年4月左右，增加至每周4班。初期该航班往返均需要在安克雷奇与首尔技术经停，后期计划取消在首尔的经停，改为纽约-安克雷奇-上海。 交通部在收到申请后，要求执飞中美航线的美国三大航就此发表看法。美国三大航在给交通部的回复中均没有提出反对意见，但也提出了一些疑问，建议暂缓批准。 目前，中美间直航航班为每周24个往返航班，中方及美方航司各12个，与疫情前依然相距甚远。在疫情前，中美之间每周的直飞航班量超过300班，目前的航班量还不到疫情前的1/10，大量旅客往返中美还需要通过中转。 资料显示，美国东方航空最早成立于1926年，曾经是美国的四大航之一。数据显示，目前美国东方航空机队共计12架飞机，包括波音767和波音777飞机。（完） Source 打破围堵 中国国产光刻机实现突破 中时新闻网  7/27/2023 　　大陆半导体界最近传出消息称，上海微电子预计在2023年底能将交付首台国产28奈米浸润式光刻机。图为上海微电子制造的90nm光刻机。（图／上海微电子） 　　继美国与荷兰之后，日本于7月23日实施限制半导体制造设备出口新规正式生效，这对中国半导体产业最尖端的芯片制造领域带来巨大压力。陆媒指出，虽然中国将因此而增加高端光刻机国产化的难度，但近日半导体界传出消息称，上海微电子预计在2023年底能将交付首台国产28奈米浸润式光刻机。 　　据《证券日报》，光刻机是半导体工业最重要的设备之一，决定著芯片的工艺水准和性能，是芯片制造中的关键设备，也是半导体产业核心中的核心。但是目前全球光刻机市场几乎被荷兰的艾斯麦(ASML)、日本的佳能和尼康垄断，其中ASML更是独佔高端极紫外光刻机(EUV)的市场份额。 　　报道说，EUV光刻机有超过45万个零件，零件数量是一辆F1赛车的20倍以上，制造难度超乎想像。即便是处于世界EUV光刻机制造垄断地位的ASML，大约也只生产了其中的15%，另外85%的零件需要从全球的供应链整合而来。因此，中国推进光刻机关键技术研发以提升半导体设备国产化，是当下乃至未来相当长一段时间内，既重要紧迫，同时又有很高难度的攻坚任务。 …

飞机坐哪最舒服？机长揭“最佳位置” 联合新闻网  7/31/2023 　　有些人有易晕体质，不管搭乘车子还是船，甚至飞机都有出现头晕、不舒服的形况。澳洲有一名机长表示，如果是容易晕的旅客，建议可以买靠近“机头”的位置，因为愈靠近机尾，摇晃的程度会愈大，恐怕会让人更不舒服。 　　澳洲机师尼可拉森(Jimmy Nicholson)常在抖音分享关于搭飞机的小知识，这次他拍影片教大家如何选择飞机座位，他表示其实很多人不知道，飞机愈靠近机尾“摇晃程度越大”，会比前排颠簸许多，因此如果会晕机的旅客，建议尽量选择“飞机前排”的位置，降低自己的不舒服感。 　　尼可拉森也表示，虽然乱流会导致旅客晕机或是焦虑，但通常并不危险，请大家不用太害怕，另外，除了座位选择飞机前排之外，尼可拉森也建议容易晕机的旅客，可以多看看窗外景色，尤其盯著地平线来分散注意力，能够有效减缓不适感。 　　不过先前也有英国机长伊兹(Nick Eades)透露飞机上最佳位置，他则认为靠近紧急出口的座位为首选，如果飞机发生事故，坐在此位的人不仅可以帮助人们，还可能第一个离开飞机，是个绝佳位置，伊兹也强调，每个人都应该掌握安全，而不是仰赖机长一个人。 Source 打破围堵 中国国产光刻机实现突破 中时新闻网  7/27/2023 　　大陆半导体界最近传出消息称，上海微电子预计在2023年底能将交付首台国产28奈米浸润式光刻机。图为上海微电子制造的90nm光刻机。（图／上海微电子） 　　继美国与荷兰之后，日本于7月23日实施限制半导体制造设备出口新规正式生效，这对中国半导体产业最尖端的芯片制造领域带来巨大压力。陆媒指出，虽然中国将因此而增加高端光刻机国产化的难度，但近日半导体界传出消息称，上海微电子预计在2023年底能将交付首台国产28奈米浸润式光刻机。 　　据《证券日报》，光刻机是半导体工业最重要的设备之一，决定著芯片的工艺水准和性能，是芯片制造中的关键设备，也是半导体产业核心中的核心。但是目前全球光刻机市场几乎被荷兰的艾斯麦(ASML)、日本的佳能和尼康垄断，其中ASML更是独佔高端极紫外光刻机(EUV)的市场份额。 　　报道说，EUV光刻机有超过45万个零件，零件数量是一辆F1赛车的20倍以上，制造难度超乎想像。即便是处于世界EUV光刻机制造垄断地位的ASML，大约也只生产了其中的15%，另外85%的零件需要从全球的供应链整合而来。因此，中国推进光刻机关键技术研发以提升半导体设备国产化，是当下乃至未来相当长一段时间内，既重要紧迫，同时又有很高难度的攻坚任务。 　　报道指出，近日有消息称，上海微电子正极力研发28奈米浸润式DUV光刻机，预计在2023年底将国产第一台SSA/800-10W光刻机设备交付市场。而去年底官方公布华为一项名为“反射镜、光刻装置及其控制方法”(CN115343915A)的新专利，未来能在EUV光刻机核心技术上取得的突破性进展。另外，华中科技大学研製的OPC系统、哈尔滨工业大学研製的镭射干涉系统等，也各自有所突破。将加快推进14 奈米、7奈米甚至更低节点的光刻机研发工作。 　　大陆目前可量产90奈米以上的光刻机，与国际先进水准仍有差距，但也能满足国内市场部分需要。这显示中国在光刻机领域具有一定的技术积累和人才储备，有望逐步缩小与国际先进水准的差距。不过，光刻机涉及光学、精密机械、材料、控制等多领域複杂技术，关键技术研发具有超高难度，仅有政策和资金支援还远远不够，还需要包括技术、人才、资料等各种资源的高效组合。 　　报道说，光刻机是半导体产业“王冠上的明珠”，推进其关键技术研发，提升半导体设备国产化率，是中国半导体产业发展的必由之路，道路虽远，只要持续前进就会到达。　 Source 全球太空支出未来五年料增长41% 7/25/2023 …