中国军方征集违规军事装备招标行为线索 追溯至2017年 7/29/2023 隶属于中国军委装备发展部的全军武器装备采购信息网发布公告，公开征集自2017年10月以来的军事装备违规采购招标线索，开展装备采购招标违规违纪整肃行动。 全军武器装备采购信息网星期三（7月26日）发布《关于征集全军装备采购招标评审专家违规违纪线索的公告》，提到“为营造装备采购招标评审良好生态，军委装备发展部决定开展装备采购招标评审专家违规违纪清查整肃治理活动”，追溯自2017年10月以来违规违纪的装备采购招标行为。 军委装备发展部称，违规违纪行为的主要范围包括，自律不严、操守缺失，该回避的不回避，为关系企业提供帮助，帮助指定企业中标；不愿较真、不敢碰硬，遇到问题、分歧不讲原则，该扣的分不扣、该废的标不废；工作粗疏、评审出错，审阅文件资料不认真、不细心，评分不对标，错评误评漏评；拉帮结派、私下勾连，形成“小圈子”操控评标过程；偏袒照顾、以“专”谋私，评分标准评审中设置倾向性、排他性条款，甚至成为违规操作的帮手。 违规行为的范围还包括，任性用权、处事不公，投诉审议中“拉偏架”，为企业保驾护航，不按国家和军队有关规定处理问题，甚至误导处理决定等；跑风漏气、主动泄密，私自透露评审专家信息，评审专家私自透露项目信息、投标单位信息、评审工作信息；组建不力、监管缺失，招标评审专家库入口把关不严、审核入库流于形式，缺乏系统建设监管措施，动态更新专家库不到位，违规违纪专家处理不力。 中共中央军委主席习近平星期一（7月24日）在主持中共中央政治局第七次集体学习时，也强调要“全面加强军事治理”，称“要把军事治理同改革和法治有机结合起来……强化法规制度实施和执行监督”，用好法治更好推进军事治理各项工作。 另外，《南华早报》星期五（28日）引述消息人士报道称，中共中央军委纪律检查委员会及军方审计部门，正对火箭军司令员李玉超、副司令员刘光斌及前副司令员张振中展开调查，据称三人已被中共中央军委反腐机构调查人员带走。 Source 打破围堵 中国国产光刻机实现突破 中时新闻网 7/27/2023 大陆半导体界最近传出消息称，上海微电子预计在2023年底能将交付首台国产28奈米浸润式光刻机。图为上海微电子制造的90nm光刻机。（图／上海微电子） 继美国与荷兰之后，日本于7月23日实施限制半导体制造设备出口新规正式生效，这对中国半导体产业最尖端的芯片制造领域带来巨大压力。陆媒指出，虽然中国将因此而增加高端光刻机国产化的难度，但近日半导体界传出消息称，上海微电子预计在2023年底能将交付首台国产28奈米浸润式光刻机。 据《证券日报》，光刻机是半导体工业最重要的设备之一，决定著芯片的工艺水准和性能，是芯片制造中的关键设备，也是半导体产业核心中的核心。但是目前全球光刻机市场几乎被荷兰的艾斯麦(ASML)、日本的佳能和尼康垄断，其中ASML更是独佔高端极紫外光刻机(EUV)的市场份额。 报道说，EUV光刻机有超过45万个零件，零件数量是一辆F1赛车的20倍以上，制造难度超乎想像。即便是处于世界EUV光刻机制造垄断地位的ASML，大约也只生产了其中的15%，另外85%的零件需要从全球的供应链整合而来。因此，中国推进光刻机关键技术研发以提升半导体设备国产化，是当下乃至未来相当长一段时间内，既重要紧迫，同时又有很高难度的攻坚任务。 报道指出，近日有消息称，上海微电子正极力研发28奈米浸润式DUV光刻机，预计在2023年底将国产第一台SSA/800-10W光刻机设备交付市场。而去年底官方公布华为一项名为“反射镜、光刻装置及其控制方法”(CN115343915A)的新专利，未来能在EUV光刻机核心技术上取得的突破性进展。另外，华中科技大学研製的OPC系统、哈尔滨工业大学研製的镭射干涉系统等，也各自有所突破。将加快推进14 奈米、7奈米甚至更低节点的光刻机研发工作。 大陆目前可量产90奈米以上的光刻机，与国际先进水准仍有差距，但也能满足国内市场部分需要。这显示中国在光刻机领域具有一定的技术积累和人才储备，有望逐步缩小与国际先进水准的差距。不过，光刻机涉及光学、精密机械、材料、控制等多领域複杂技术，关键技术研发具有超高难度，仅有政策和资金支援还远远不够，还需要包括技术、人才、资料等各种资源的高效组合。 报道说，光刻机是半导体产业“王冠上的明珠”，推进其关键技术研发，提升半导体设备国产化率，是中国半导体产业发展的必由之路，道路虽远，只要持续前进就会到达。 Source 全球太空支出未来五年料增长41% 7/25/2023 …
